【研討會】3/27 雷射光學模擬與熱效應分析-工研院南分院

【研討會】3/27 雷射光學模擬與熱效應分析-工研院南分院 發佈日期 2025-02-24


 

光學工程的快速發展推動雷射與光學系統廣泛應用於工業製造、醫療技術與科學研究,光學技術創新至關重要。本次討論聚焦固態雷射量測、光學設計軟體應用、雷射模擬工具及熱效應分析四大主題。 
 
ASLD固態雷射量測設備:確保雷射系統性能,精確檢測功率、波長與光束品質,提升工業加工與醫療應用。 
 
Zemax在Beam Shaping與雷射散斑的應用:展示光學設計軟體在光束整形與散斑控制中的價值,透過模擬優化提升系統性能。 
 
Lumerical於VCSEL與邊射型雷射模擬應用:強調模擬工具在雷射設計中的重要性,幫助優化結構設計、提升效率與光束品質。 
 
Ansys Mechanical與Zemax整合溫飄模擬:分析熱應力與光學模擬,精確預測溫度變化對光學系統的影響,確保系統穩定性。 
本活動探討前沿技術,助力研究與應用創新,推動光學技術發展。
 
 
【注意事項】
請於3月25日前完成報名
主辦單位保留活動內容變更之權利
報名成功者將於3月26日以信件形式通知

 

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